演讲嘉宾-李雪松

李雪松
电子科技大学教授
  李雪松,电子科技大学教授,2019年科睿唯安全球高被引学者,是用化学气相沉积甲烷在铜箔上合成大面积石墨烯薄膜的方法的发明者。清华大学机械工程专业学士、材料加工工程专业硕士,美国伦斯勒理工材料工程专业博士。先后在美国德州大学奥斯汀分校、IBM T.J.沃特森研究中、耶鲁大学进行博士后和副研究员工作研究。研究领域为石墨烯薄膜的制备与应用。已发表包括Science, Nature Materials, Nature Nanotechnology, Nature Photonics等顶级期刊SCI文章80余篇,SCI统计引用次数31000多次。研究工作得到英国BBC新闻、Nature、ScienceDaily、C&EN等多个媒体的广泛报道。他于2009发表在Science的《铜箔衬底上甲烷气相沉积法合成石墨烯》的工作被Science选为2009年度重大突破之一,Google scholar引用超过10000次。当前科研及生产中石墨烯薄膜制备主要使用这一技术。
演讲题目:面向工业制备的石墨烯薄膜制备与转移技术研究
主题会场
开始时间
结束时间
内容摘要

  基于铜基底的化学气相沉积法制备石墨烯薄膜技术在学术研究及工业制备中均得到广泛应用。近些年来,该技术在石墨烯单晶制备、褶皱控制等方面均获得很大的突破。然而,要真正实现石墨烯薄膜的工业化制备,仍然存在一些瓶颈需要解决。首先,石墨烯薄膜的可控制备技术仍有待提升。实验研究往往会将条件理想化考虑,而工业制备则面临更加复杂的条件。因此,需要对石墨烯薄膜制备过程中的杂质、污染等因素进行考虑,以提高制备结果的可靠性及可重复性。其次,工业制备要考虑效率及成本,因此要对生产设备及工艺进行优化。此外,生长在铜基底上的石墨烯薄膜需要转移到目标基底上进行后续应用,而转移过程的引入是当前石墨烯薄膜生产中的最大瓶颈,不但会导致石墨烯的破损与污染,还会极大的增加生产成本。本报告针对上述问题并结合本课题组近些年研究成果进行讨论,包括非理想因素对石墨烯生长过程的影响、石墨烯的层数控制、高指数铜晶面上石墨烯晶畴的定向生长、大面积石墨烯薄膜的卷绕法高效制备、以及新型石墨烯薄膜转移方法等。

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400-110-3655   

E-mail: meeting@c-gia.cn   meeting01@c-gia.cn

参展电话:13646399362(苏老师)

主讲申请:19991951101(王老师)

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  李雪松,电子科技大学教授,2019年科睿唯安全球高被引学者,是用化学气相沉积甲烷在铜箔上合成大面积石墨烯薄膜的方法的发明者。清华大学机械工程专业学士、材料加工工程专业硕士,美国伦斯勒理工材料工程专业博士。先后在美国德州大学奥斯汀分校、IBM T.J.沃特森研究中、耶鲁大学进行博士后和副研究员工作研究。研究领域为石墨烯薄膜的制备与应用。已发表包括Science, Nature Materials, Nature Nanotechnology, Nature Photonics等顶级期刊SCI文章80余篇,SCI统计引用次数31000多次。研究工作得到英国BBC新闻、Nature、ScienceDaily、C&EN等多个媒体的广泛报道。他于2009发表在Science的《铜箔衬底上甲烷气相沉积法合成石墨烯》的工作被Science选为2009年度重大突破之一,Google scholar引用超过10000次。当前科研及生产中石墨烯薄膜制备主要使用这一技术。
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  基于铜基底的化学气相沉积法制备石墨烯薄膜技术在学术研究及工业制备中均得到广泛应用。近些年来,该技术在石墨烯单晶制备、褶皱控制等方面均获得很大的突破。然而,要真正实现石墨烯薄膜的工业化制备,仍然存在一些瓶颈需要解决。首先,石墨烯薄膜的可控制备技术仍有待提升。实验研究往往会将条件理想化考虑,而工业制备则面临更加复杂的条件。因此,需要对石墨烯薄膜制备过程中的杂质、污染等因素进行考虑,以提高制备结果的可靠性及可重复性。其次,工业制备要考虑效率及成本,因此要对生产设备及工艺进行优化。此外,生长在铜基底上的石墨烯薄膜需要转移到目标基底上进行后续应用,而转移过程的引入是当前石墨烯薄膜生产中的最大瓶颈,不但会导致石墨烯的破损与污染,还会极大的增加生产成本。本报告针对上述问题并结合本课题组近些年研究成果进行讨论,包括非理想因素对石墨烯生长过程的影响、石墨烯的层数控制、高指数铜晶面上石墨烯晶畴的定向生长、大面积石墨烯薄膜的卷绕法高效制备、以及新型石墨烯薄膜转移方法等。

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