氧化石墨烯（GO）是石墨烯的重要衍生物，因其迷人的物理化学性质而在各个应用领域得到了发展。然而，GO的一个主要问题是光稳定性弱，这导致在使用、储存和应用过程中会发生不可避免的光解和光还原。间接光解是通过光照产生强氧化性物种（如羟基自由基•OH）等，从而引起GO裂解并转化为CO2这导致了GO结构的显著变化。然而，在此过程中GO自身的光还原是否存在，以及对光解的影响仍然不明确。在此，我们发现间接光解途径可以分为两个不同的阶段。在早期阶段，光还原是主要反应，产生多孔还原GO（PrGO）。然后，过氧化氢（H2O2）将PrGO薄片破碎成碎片，最终，碎片化的GO在•OH自由基的作用下转化为CO2。早期光还原中多孔结构的产生是后续光降解的关键前提，而没有多孔结构的完整GO薄片不能被H2O2和•OH破坏。简而言之，这是我们深入了解间接光解途径和确定GO溶液在辐照下降解速率的决定步骤。这些信息可能有助于更好地理解GO的光稳定性问题，并为提高GO在使用、存储和应用中的稳定性提供了一些先进的想法。

氧化石墨烯（GO）是石墨烯的重要衍生物，因其迷人的物理化学性质而在各个应用领域得到了发展。然而，GO的一个主要问题是光稳定性弱，这导致在使用、储存和应用过程中会发生不可避免的光解和光还原。间接光解是通过光照产生强氧化性物种（如羟基自由基•OH）等，从而引起GO裂解并转化为CO2这导致了GO结构的显著变化。然而，在此过程中GO自身的光还原是否存在，以及对光解的影响仍然不明确。在此，我们发现间接光解途径可以分为两个不同的阶段。在早期阶段，光还原是主要反应，产生多孔还原GO（PrGO）。然后，过氧化氢（H2O2）将PrGO薄片破碎成碎片，最终，碎片化的GO在•OH自由基的作用下转化为CO2。早期光还原中多孔结构的产生是后续光降解的关键前提，而没有多孔结构的完整GO薄片不能被H2O2和•OH破坏。简而言之，这是我们深入了解间接光解途径和确定GO溶液在辐照下降解速率的决定步骤。这些信息可能有助于更好地理解GO的光稳定性问题，并为提高GO在使用、存储和应用中的稳定性提供了一些先进的想法。